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오늘 미래에셋대우에서 나온 넥스틴 리포트 입니다.
SPIE 2021 Advanced Lithography 학회에 동사 IRIS 장비 활용 연구결과 게재 SPIE는 광학 분야의 권위있는 학회로 반도체 노광, 계측 분야의 최신 기술 동향 주도 SPIE 2021에 국립공주대, 넥스틴, Intel 공저자의 계측(Metrology) 분야 논문 게재 논문의 주요 내용: IRIS 장비를 이용해 얻은 Image를 통해 표면 내외의 결함 측정 Intel의 3D NAND 생산 공정 중 Control Gate Recess (CGR) 공정상 결함에 주목 Throughput과 비용적인 면에서 Non-destructive 광학 현미경 필요 TSOM Intel과의 연구결과 발표
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넥스틴 - Intel과의 연구결과 발표 - 미래에셋대우
SPIE 2021 Advanced Lithography 학회에 동사 IRIS 장비 활용 연구결과 게재 SPIE는 광학 분야의 권위있는 학회로 반도체 노광, 계측 분야의 최신 기술 동향 주도 SPIE 2021에 국립공주대, 넥스틴, Intel 공저자의 계측(Metrology) 분야 논문 게재 논문의 주요 내용: IRIS 장비를 이용해 얻은 Image를 통해 표면 내외의 결함 측정 Intel의 3D NAND 생산 공정 중 Control Gate Recess (CGR) 공정상 결함에 주목 Throughput과 비용적인 면에서 Non-destructive 광학 현미경 필요 TSOM Intel과의 연구결과 발표
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